半導體真空腔體的應用

中國半導體真空腔體市場近幾年快速發展,越來越多的公司也表達了進入芯片領域的興趣.以存儲芯片為例,以前中國國內存儲芯片完全靠進口,今年福建晉華集成電路的內存生產線有望投產,另外長江存儲科技公司也在建設內存和閃存芯片生產線.格力、康佳等傳統家電企業也表示,將進入芯片領域.

據國際半導體設備與材料協會報告顯示,中國目前正在天津、西安、北京、上海等16個地區打造25個FAB建設項目,福建晉華集成電路、長江存儲科技公司等企業技術水平雖不及韓國,但均已投入芯片量產.報告預測,今年中國半導體設備市場規模有望達118億美元,實現同比43.9%的增長,并且明年市場規模有望擴大至173億美元,增長46.6%,成為大市場.而同一時期內韓國的半導體設備市場規模從179.6億美元減少至163億美元,減幅為9.2%.中國超越韓國成為全球很大半導體設備市場.

真空腔體

真空技術主要包括真空獲得、真空測量、真空檢漏和真空應用四個方面.在真空技術發展中,這四個方面的技術是相互促進的.

隨著真空獲得技術的發展,真空應用日漸擴大到工業和科學研究的各個方面.真空應用是指利用稀薄氣體的物理環境完成某些特定任務.有些是利用這種環境制造產品或設備,如燈泡、電子管和等. 這些產品在使用期間始終保持真空,而另一些則只是把真空當作生產中的一個步驟,產品在大氣環境下使用,如真空鍍膜、真空干燥和真空浸漬等.

真空的應用范圍極廣,主要分為低真空、中真空、高真空和超高真空應用.

真空腔體加工的注意事項

焊接是真空腔體制作中的環節之一。通常采用弧焊來完成焊接，可避免大氣中熔化的金屬和氧氣發生化學反應而影響焊接質量，弧焊是指在焊接過程中向鎢電極周圍噴射保護氣體氣，以防止熔化后的高溫金屬發生氧化反應。

超高真空腔體的弧焊接，原則上必須采用內焊，即焊接面是在真空一側，以免存在死角而發生虛漏。真空腔體不允許內外雙重焊接和雙重密封

個大氣壓在1cm2的面積上產生約1kgf的壓力，對直徑20cm的法蘭來講，就是1t的壓力。圓筒或球形的腔體，由于構造的特殊性使得壓力分散，腔體的壁厚2～4mm就不會變形。

但是，對于方形腔體，側面的平板上要承受上噸的壓力，必須通過增加壁厚或設置加強筋，才能防止變形。

半導體真空腔體制造技術 

真空腔體在薄膜涂層、微電子、光學器件和材料制造中，是一種能適應高真空環境的特殊容器。真空腔體通常包括一系列部品——如鐘形罩、基板、傳動軸以及輔助井——這些構成一個完整的真空腔體。

復雜的真空腔體通常需要定制，即針對應用終端進行專門的設計和制作。某些常見的真空腔體已經過預先設計，如手套箱、焊接室、脫氣箱、表面分析真空腔等。例如脫氣箱和手套箱一般采用低真空環境，可用于焊接，或用于塑料制品、復合材料層壓板、封裝組件等的脫氣。氣體稀薄程度是對真空的一種客觀量度,直接的物理量度是單位體積中的氣體分子數。

真空設備包含很多組件，如真空腔體，真空密封傳導件，視口設置，真空傳感器，真空顯示表，沉積系統，蒸發源和蒸發材料，濺鍍靶材，等離子刻蝕設備，離子注入設備，真空爐，專用真空泵，法蘭，閥門和管件等。真空設備常用于脫氣，焊接，制備薄膜涂層，生產半導體/晶圓、光學器件以及特殊材料等。脫氣箱或者脫氣室通常是腔體結構，一般帶有鉸鏈接口，可連接不需要高真空環境的其他裝置，如塑料樣品、血液、粘合劑、化學制品或其他液體的除氣設備。